離子源(英文名稱:Ionsource)是使中性原子或分子電離,并從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質(zhì)譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機(jī)、離子束刻蝕裝置、離子推進(jìn)器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設(shè)備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對(duì)氣體原子(或分子)的碰撞,帶電粒子束使工作物質(zhì)濺射以及表面電離過程都能產(chǎn)生離子,并被引出成束。根據(jù)不同的使用條件和用途,已研制出多種類型的離子源。使用較廣的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎(chǔ)的,常被籠統(tǒng)地稱為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產(chǎn)生離子的,也有很廣的用途。新型重離子源的出現(xiàn),使...
真空鍍膜設(shè)備是由許多精密的零部件所組成的,這些零部件均經(jīng)過許多機(jī)械加工流程而制作出來,如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序.正因?yàn)橛辛诉@些工作,導(dǎo)致設(shè)備零部件表面不可避免地會(huì)沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物.這些污染物在真空條件下易揮發(fā),從而對(duì)設(shè)備的極限真空造成影響.此外,這些機(jī)械加工帶來的真空污染物在大氣壓環(huán)境中吸附大量的氣體,而到了真空狀態(tài)下,這些原先吸附的氣體也會(huì)被再次釋放出來,成為限制真空系統(tǒng)的極限真空的一大主要因素.為此,在真空鍍膜機(jī)零件組裝之前,必須先將污染物***掉.在使用真空設(shè)備過程中,其零部件還會(huì)受污染.不過這種來源的污染主要是使用條件、真空泵兩方...
6)漆面拋光后,用純棉毛巾將整車清潔干凈。4、鍍膜***遍鍍膜:將產(chǎn)品充分搖動(dòng)均勻,直接將產(chǎn)品倒在車身上,常溫工作,不要在陽光直射下,發(fā)動(dòng)機(jī)罩降溫后比較好。用干凈的鍍膜條,輕快而有力地“十字形式打擦”,直到均勻涂擦。干成結(jié)晶體,漆面就越光澤,附著力越強(qiáng),選擇鍍膜效果比較好。第二遍鍍膜:重復(fù)***遍,10至20分鐘干燥后,鏡靚鍍膜效果立即呈現(xiàn)。顯著一層玻璃體的光亮保護(hù)漆面。5、如何判斷鍍膜施工的質(zhì)量?(1)車漆的漆面色澤要一致,和拋光前相比,亮度有明顯改善,比新車還要有亮度;出現(xiàn)玻璃境面,用報(bào)紙?jiān)谄崦嫔峡吹褂扒逦?2)換拋光劑的同時(shí)更換海綿輪,不可混用海綿輪。(3)要在陰涼、光線好的專業(yè)美容車...
這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,即能鍍金屬膜又能直接鍍化合物膜,如氧化鋅等;可用于鍍電子器件,音響器件。11)多弧離子鍍。利用陰極弧光進(jìn)行加熱;依靠蒸發(fā)原子束的定向運(yùn)動(dòng)使反應(yīng)氣體(或真空)離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升較大,離化率高,沉積速率大;可用于鍍機(jī)械制品,刀鋸,模具。4.真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展趨勢科技發(fā)展愈來愈快,信息高速公路,數(shù)字地球等新概念的提出,影響和帶動(dòng)了全球高科技的發(fā)展,目前,生命科學(xué),環(huán)??萍迹牧峡茖W(xué)和納米科技是高科技重點(diǎn)研究的領(lǐng)域;納米科技中又以納米電子學(xué)為優(yōu)先研究領(lǐng)域。目前計(jì)算機(jī)和信息技術(shù)的基礎(chǔ)是超大規(guī)模集成電路;但下個(gè)世紀(jì)的基本元件將是納米電子集成電路。它是微電子器件的...
所述滑桿遠(yuǎn)離所述固定座的一端固定安裝傳感觸頭,所述滑桿另一端固定連接伸縮桿和止動(dòng)板,所述止動(dòng)板滑動(dòng)連接所述導(dǎo)桿,所述止動(dòng)板和所述支撐板之間的導(dǎo)桿上套設(shè)壓縮彈簧。所述氣缸端部和密封導(dǎo)套之間固定連接密封裝置,提高密封性能。所述密封裝置為密封蓋及其固定內(nèi)部膠封,提高密封性能。所述密封蓋和所述氣缸端部之間設(shè)有支撐座。所述彈簧為圓柱螺旋壓縮彈簧。本實(shí)用新型工作原理是:固定座設(shè)置在卷繞鍍膜機(jī)的真空室內(nèi),法蘭盤作為基座固定在真空室的外壁上,殼體在該處設(shè)有貫穿通孔,利用氣缸的伸縮桿伸縮運(yùn)動(dòng),帶動(dòng)傳感觸頭前伸測量膜層及鍍層上的電阻值,測量完收回,其中,止動(dòng)板前伸擠壓彈簧,減緩傳感觸頭運(yùn)動(dòng)的速度,也限定傳感觸頭運(yùn)...
成膜好,適合鍍化合物膜。但匹配較困難。可應(yīng)用于鍍光學(xué),半導(dǎo)體器件,裝飾品,汽車零件等。6)增強(qiáng)ARE型。利用電子束進(jìn)行加熱;充入Ar,其它惰性氣體,反應(yīng)氣體氧氣,氮?dú)獾龋浑x化方式:探極除吸引電子束的一次電子,二次電子外,增強(qiáng)極發(fā)出的低能電子也可促進(jìn)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,要對(duì)基板加;可用于鍍機(jī)械制品,電子器件,裝飾品。7)低壓等離子體離子鍍(LPPD)。利用電子束進(jìn)行加熱;依靠等離子體使充入的惰性氣體,反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,要對(duì)基板加熱,結(jié)構(gòu)簡單,能獲得氧化鋁,氮化鈦,碳化鈦等離子化合物鍍層;可用于鍍機(jī)械制品,電子器件,裝飾品。8)電場蒸發(fā)。利用電子束進(jìn)行...
所述滑桿遠(yuǎn)離所述固定座的一端固定安裝傳感觸頭,所述滑桿另一端固定連接伸縮桿和止動(dòng)板,所述止動(dòng)板滑動(dòng)連接所述導(dǎo)桿,所述止動(dòng)板和所述支撐板之間的導(dǎo)桿上套設(shè)壓縮彈簧。所述氣缸端部和密封導(dǎo)套之間固定連接密封裝置,提高密封性能。所述密封裝置為密封蓋及其固定內(nèi)部膠封,提高密封性能。所述密封蓋和所述氣缸端部之間設(shè)有支撐座。所述彈簧為圓柱螺旋壓縮彈簧。本實(shí)用新型工作原理是:固定座設(shè)置在卷繞鍍膜機(jī)的真空室內(nèi),法蘭盤作為基座固定在真空室的外壁上,殼體在該處設(shè)有貫穿通孔,利用氣缸的伸縮桿伸縮運(yùn)動(dòng),帶動(dòng)傳感觸頭前伸測量膜層及鍍層上的電阻值,測量完收回,其中,止動(dòng)板前伸擠壓彈簧,減緩傳感觸頭運(yùn)動(dòng)的速度,也限定傳感觸頭運(yùn)...
用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子借助于靶表面上形成的正交電磁場,被束縛在靶表面特定區(qū)域,增強(qiáng)電離效率,增加離子密度和能量,從而實(shí)現(xiàn)高速率濺射。是制備低維度,小尺寸納米材料器件的必備實(shí)驗(yàn)手段,廣泛應(yīng)用于集成電路,光子晶體,低維半導(dǎo)體等領(lǐng)域。主要用于濺射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW...
真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支,在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分***的應(yīng)用。真空鍍膜應(yīng)用,簡單地理解就是在真空環(huán)境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對(duì)于傳統(tǒng)鍍膜方式,真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜,它的主要方法包括以下幾種:真空蒸鍍其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì),使其氣化或升華,蒸發(fā)離子流直接射向基片,并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜濺射鍍膜是真空條件下,在陰極接上2000V高壓電,激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰...
限制夏季室外的二次熱輻射進(jìn)入室內(nèi),南方、北方都適用。因其具有豐富的裝飾效果和室外視線遮陽作用,適用于各類建筑物。雙銀LowE玻璃雙銀LowE玻璃突出了玻璃對(duì)太陽熱輻射的遮陽效果,將玻璃的高透光性與太陽熱輻射的低透過性巧妙地結(jié)合在一起,有較高的可見光透過率,可有效地限制夏季室外的背景熱輻射進(jìn)入室內(nèi)。相關(guān)概念鏡頭鏡頭在影視中有兩指,一指電影攝影機(jī)、放映機(jī)用以生成影像的光學(xué)部件,由多片透鏡組成。各種不同的鏡頭,各有不同的造型特點(diǎn),它們?cè)跀z影造型上的應(yīng)用,構(gòu)成光學(xué)表現(xiàn)手段;二指從開機(jī)到關(guān)機(jī)所拍攝下來的一段連續(xù)的畫面,或兩個(gè)剪接點(diǎn)之間的片段,也叫一個(gè)鐿頭。一指和二指,是兩個(gè)完全不同的概念,為了區(qū)別兩者的...
通帶以外的光截止,其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(CWL),半帶寬(FWHM),分為窄帶和寬帶,比如窄帶濾光片短波通型(又叫低波通):短于選定波長的光通過,長于該波長的光截止,比如紅外截止濾光片長波通型(又叫高波通):長于選定波長的光通過,短于該波長的光截止,比如紅外透過濾光片四、IR-CUT雙濾光片的使用可以有效解決雙峰濾光片產(chǎn)生問題,IR-CUT雙濾光片由一個(gè)紅外截止濾光片和一個(gè)全光譜光學(xué)玻璃構(gòu)成,當(dāng)白天的光線充分時(shí)紅外截止濾光片工作,CCD還原出真實(shí)彩色,當(dāng)夜間光線不足時(shí),紅外截止濾光片自動(dòng)移開,全光譜光學(xué)玻璃開始工作,使CCD充分利用到所有光線,從而**提高了低照性能,IRCUT雙濾光片專為...
簡介真空鍍膜在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法**早由M.法拉第于1857年提出,現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)如圖1。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃...
通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上。基片置于正對(duì)靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發(fā)鍍膜不同,濺射鍍膜不受膜材熔點(diǎn)的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺射化合物膜可用反應(yīng)濺射法,即將反應(yīng)氣體(O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在基片上。...
可靈活變化可搭載各種陰極(DC,UBM,DMS,旋轉(zhuǎn)磁石)前處理機(jī)能(改善密著性)2.面向量產(chǎn)的磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)(W50/60S系列)面向量產(chǎn)的磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)維護(hù)性基膜寬:1,300mm、1,600mm(~2,000mm)磁控濺射區(qū)數(shù):1鍍膜滾筒4個(gè)區(qū),分割區(qū)域排氣充實(shí)的脫氣機(jī)能應(yīng)用例1.透明導(dǎo)電膜(ITO,ZnO等)1)高抵抗ITO膜:面向觸摸屏100~300Ωsq.高方阻ITO的高穩(wěn)定性95℃,1000Hr試驗(yàn)同時(shí)具備柔性和低方阻的高穩(wěn)定性(經(jīng)時(shí)變化?。┑姆蔷з|(zhì)ITO膜的鍍膜2)低方阻ITO膜:液晶,有機(jī)EL10Ωsq.以下低溫鍍膜所形成的優(yōu)越的方阻率(UBM/BM比較)BM:通常的...
原標(biāo)題:真空鍍膜機(jī)常見的幾種真空鍍膜材料相信大家對(duì)真空鍍膜機(jī)常用的真空鍍膜材料并不陌生,但剛?cè)胄械男氯苏J(rèn)起來應(yīng)該就比較吃力了,為了幫助剛?cè)胄械呐笥汛蚝没A(chǔ),匯馳小編特意歸納一下真空鍍膜機(jī)常見的幾種真空鍍膜材料。真空鍍膜機(jī)1、氧化物一氧化硅SiO、二氧化硅SiO2、二氧化鈦TiO2、二氧化鋯ZrO2、二氧化鉿HfO2、一氧化鈦TiO、五氧化三鈦Ti3O5、五氧化二鈮Nb2O5、五氧化二鉭Ta2O5、氧化釔Y2O3、氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。2、氟化物氟化釹NbF3、氟化鋇BaF2、氟化鈰CeF3、氟化鎂MgF2、氟化鑭LaF3、氟化釔YF3、氟化鐿YbF3、氟化鉺ErF3等高純氟化物。3...
真空鍍膜設(shè)備的蒸發(fā)源選取原則是什么呢?這是我們關(guān)注的一個(gè)問題,下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析蒸發(fā)源選取原則。1.有良好的熱穩(wěn)定性,化學(xué)性質(zhì)不活潑,達(dá)到蒸發(fā)溫度時(shí)加熱器本身的蒸汽壓要足夠底。2.蒸發(fā)源的熔點(diǎn)要高于被蒸發(fā)物的蒸發(fā)溫度。加熱器要有足夠大的熱容量。3.蒸發(fā)物質(zhì)和蒸發(fā)源材料的互熔性必須很底,不易形成合金。4.要求線圈狀蒸發(fā)源所用材料能與蒸發(fā)材料有良好的浸潤,有較大的表面張力。5.對(duì)于不易制成絲狀、或蒸發(fā)材料與絲狀蒸發(fā)源的表面張力較小時(shí),可采用舟狀蒸發(fā)源。江蘇卷繞鍍膜機(jī)哪家比較優(yōu)惠?上海品質(zhì)卷繞鍍膜機(jī)常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣...
利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。一、結(jié)構(gòu)**簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下,可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時(shí),在它的兩個(gè)表面上發(fā)生多次反射和折射,反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出,反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定(見光在分界面上的折射和反射)。二、特點(diǎn)光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割,膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的,可以是透明介質(zhì),也可以是光學(xué)薄膜吸收介質(zhì):可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的,實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多,這是因?yàn)?..
目前市場上的真空鍍膜設(shè)備廠家是非常多的,所以競爭就非常激烈了,消費(fèi)者在選擇真空鍍膜設(shè)備廠家的時(shí)候,是需要通過一些方面來鑒別真空鍍膜設(shè)備廠家的實(shí)力。一、經(jīng)驗(yàn)。真空鍍膜設(shè)備維修和很多其他的技能是一樣的,具有豐富的經(jīng)驗(yàn)才能應(yīng)對(duì)多種狀況的出現(xiàn),才能保障好結(jié)果。二、成功案例。真空鍍膜設(shè)備維修案例是直接的實(shí)力見證之一,真空鍍膜設(shè)備維修要的還是實(shí)際的操作,這不僅*包括了真空鍍膜設(shè)備本身,還包括了像真空鍍膜設(shè)備這樣的專業(yè)配置,畢竟配置是真空鍍膜設(shè)備維修的重要前提。三、售后服務(wù)。售后服務(wù)是真空鍍膜設(shè)備維修后的一個(gè)重要保障之一,完善的售后服務(wù)是真空鍍膜設(shè)備維修的一部分。四、維修配件必須要有保障。每一個(gè)公司很難在每...
在離子源推進(jìn)器實(shí)驗(yàn)中,人們發(fā)現(xiàn)有推進(jìn)器材料從離子源飛出,這就開始了離子源在材料,特別是材料表面改性的應(yīng)用。離子源的另一個(gè)重要應(yīng)用是高能物理。具體就是離子加速器。簡單地說就是用一臺(tái)離子源產(chǎn)生某種材料的離子,這個(gè)離子就在磁性環(huán)路上加速,從而轟擊一個(gè)靶,產(chǎn)生新的物質(zhì)或揭示新的物理規(guī)律。真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源,弧放電離子源,kaufman離子源,射頻離子源,霍爾離子源,冷陰極離子源,電子回旋離子源,陽極層離子源,感應(yīng)耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。離子源類型雖多,目的卻無非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度,...
測試結(jié)果:涂層表面無明顯破壞的痕跡.測試項(xiàng)目五:耐化妝品測試測試程式:先用棉布將產(chǎn)品的表面檫拭干凈,將凡士林護(hù)手霜涂在產(chǎn)品的表面上,將產(chǎn)品防在恒溫箱中(溫度55-65,90-98%RH),保持24小時(shí),將產(chǎn)品取出,用棉布將化妝品檫拭干凈,觀察外表,24小時(shí)后做附著力測試.測試工具:棉布,凡士林,高低試驗(yàn)箱測試結(jié)果:涂層表面無異?,F(xiàn)象,附著力OK.測試項(xiàng)目六:耐手汗測試測試程式:將手汗(主要的成分:氨水1.07%,NaCl0.48%,其余為水)浸泡后的無紡布貼在產(chǎn)品的表面,用塑料袋密封后,在常溫的環(huán)境放置12小時(shí),將產(chǎn)品表面的汗液檫拭干凈,檢查涂層的外觀,24小時(shí)后做附著力測試.測試工具:高低溫...
本實(shí)用新型涉及鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及應(yīng)用于卷繞鍍膜機(jī)的在線測量裝置。背景技術(shù):目前,對(duì)于卷繞鍍膜機(jī)上不同厚度的膜材及鍍層上的電阻值需要通過人工測量,無法實(shí)現(xiàn)在線即時(shí)測量,這種傳統(tǒng)的測量方式費(fèi)時(shí)費(fèi)力,效率較低。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:鑒于背景技術(shù)的不足,本實(shí)用新型是提供了應(yīng)用于卷繞鍍膜機(jī)的在線測量裝置,解決的問題是現(xiàn)有技術(shù)中,采用人工測量的方式測量卷繞鍍膜機(jī)上的膜材及鍍層上的電阻值,測量方式費(fèi)時(shí)費(fèi)力,測量效率低。為解決以上技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供了如下技術(shù)方案:應(yīng)用于卷繞鍍膜機(jī)的在線測量裝置,包括真空室,在所述真空室的內(nèi)部固定設(shè)置固定座,固定座可以貼合固定在真空室的內(nèi)壁上,也可以間接固定在真空室內(nèi),在所...
對(duì)于真空鍍膜機(jī)所用的塑料材料,需要與膜層結(jié)合性高,放氣量小,受熱穩(wěn)定,同時(shí)滿足這三個(gè)條件的塑料材料是非常少的,但塑料材料在工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用卻非常***,所以塑料真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用也隨之發(fā)展起來,為了使更多的塑料投入到真空鍍膜中,常常通過各種方法改進(jìn)?,F(xiàn)在介紹幾種真空鍍膜中常用的塑料,ABS是**早使用的,是同時(shí)滿足三個(gè)條件的塑料,A**丙烯腈,B**丁二烯,S**苯乙烯,塑料中含有以上三種物質(zhì)的就是ABS塑料了,ABS鍍上膜層后,可以很好的發(fā)揮其機(jī)械性能、抗沖擊性,依靠其硬度大,耐磨損,成本不高,常常被用于代替某些金屬機(jī)械零部件,也用于生產(chǎn)家用電器的外殼,但由于含有丁二烯,ABS不能在室外使用,...
ALtimax中文名:白金鋁鈦_納米晶體;顏色:銀白色;硬度:4300HV;摩擦系數(shù):??寡趸瘻囟龋?200℃;優(yōu)點(diǎn):高熱穩(wěn)定性;通用於高速鋼與硬質(zhì)合金刀具高速、干式、連續(xù)性切削;可加工高硬度模具鋼50HRC。MedicaWC/C涂層顏色:黑色;硬度硬度>17000HV;摩擦系數(shù):;高工作溫度:450℃;優(yōu)點(diǎn):磨擦力低,干式金屬潤滑膜;適合醫(yī)療、藥品行業(yè)無油環(huán)境。CrN-WC/C涂層顏色:黑色;硬度>2000HV;摩擦系數(shù):;高工作溫度:650℃;優(yōu)點(diǎn):解決射出成型脫膜、腐蝕問題;適合汽車、機(jī)械零件降低磨擦損耗;適合無油軸承,干式金屬潤滑膜。鍍膜技術(shù)真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技...
凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。真空蒸發(fā)鍍膜又可以分為下列幾種:電阻蒸發(fā)源蒸鍍法采用鉭,鉬,鎢等高熔點(diǎn)金屬,做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源,其上裝入待蒸發(fā)材料,讓氣流通過,對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā),或者把待蒸發(fā)材料放入氧化鋁,氧化鈹?shù)熔徨佒羞M(jìn)行間接加熱蒸發(fā),這就是電阻加熱蒸發(fā)法。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)簡單,造價(jià)便宜,使用可靠,可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜,尤其適用于對(duì)鍍膜質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中,迄今為止,在鍍鋁制鏡的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點(diǎn)是:加熱所能達(dá)到的**高溫度有限,加熱器的壽命也較短。近年來,為了提高加熱器的壽命,國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合...
主要是操作麻煩還影響生產(chǎn)效率。測試炅盛電鍍油污處理劑的辦法來解決油污問題,測試結(jié)果成功,在底漆柜前端加兩把***噴處理劑,直接濕噴濕,緊接就噴UV底,不影響生產(chǎn)效率,并且還能提高生產(chǎn)效率和良率。ABS化妝品瓶蓋UV真空鍍膜除油方法:PC料蘋果手機(jī)保護(hù)套工藝是工件表面噴涂UV底漆然后真空電鍍,再中涂之后鐳雕***噴UV面漆。問題是噴UV底漆之后表面起油點(diǎn),簡單好用的處理方式是噴炅盛處理劑研發(fā)的電鍍油污處理劑蓋住素材上的油污,然后噴UV底,不起霧不發(fā)白。PC料手機(jī)套UV真空鍍膜除油方法塑膠成型工藝時(shí),素材從模具中脫模出來多少都會(huì)殘留些脫模劑,另外有些油污是外部造成的,泡白電油、泡某些溶劑、超聲波清...
真空鍍膜設(shè)備是由許多精密的零部件所組成的,這些零部件均經(jīng)過許多機(jī)械加工流程而制作出來,如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序.正因?yàn)橛辛诉@些工作,導(dǎo)致設(shè)備零部件表面不可避免地會(huì)沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物.這些污染物在真空條件下易揮發(fā),從而對(duì)設(shè)備的極限真空造成影響.此外,這些機(jī)械加工帶來的真空污染物在大氣壓環(huán)境中吸附大量的氣體,而到了真空狀態(tài)下,這些原先吸附的氣體也會(huì)被再次釋放出來,成為限制真空系統(tǒng)的極限真空的一大主要因素.為此,在真空鍍膜機(jī)零件組裝之前,必須先將污染物***掉.在使用真空設(shè)備過程中,其零部件還會(huì)受污染.不過這種來源的污染主要是使用條件、真空泵兩方...
真空鍍膜機(jī)原理真空鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用很多的真空設(shè)備,一般用真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司專業(yè)從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)團(tuán)隊(duì)及售后服務(wù)隊(duì)伍為您解決設(shè)備在使用過程中遇到的任何問題。下面,詳細(xì)介紹真空鍍膜機(jī)的各部分組成及其工作原理。一、真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應(yīng)用多的有直徑、、、,腔體由不銹鋼"target=_blank>不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅(jiān)實(shí)等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。二、輔助抽氣系統(tǒng):排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系...
利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。一、結(jié)構(gòu)**簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下,可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時(shí),在它的兩個(gè)表面上發(fā)生多次反射和折射,反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出,反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定(見光在分界面上的折射和反射)。二、特點(diǎn)光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割,膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的,可以是透明介質(zhì),也可以是光學(xué)薄膜吸收介質(zhì):可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的,實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多,這是因?yàn)?..
簡介真空鍍膜在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法**早由M.法拉第于1857年提出,現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)如圖1。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃...
車燈真空鍍膜UV漆的技術(shù)要求車燈真空鍍膜UV漆的技術(shù)要求由于輻射固化涂料的綠色環(huán)保與高效率,使得該技術(shù)在世界范圍內(nèi)獲得了重視和快速增長,其應(yīng)用領(lǐng)域越來越廣。UV涂層具有極好的表面光潔度,很適合作為底漆用于真空金屬鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,在塑料基材上可獲得十分光亮的金屬外觀。隨著汽車工業(yè)的發(fā)展,許多金屬替代工藝得到了應(yīng)用,目前在汽車車燈反射罩應(yīng)用領(lǐng)域,已經(jīng)完全采用在PC、BMC等塑料表面通過真空鍍鋁膜來提高反射效果,用于這一領(lǐng)域的UV涂料要求具有良好的流平性,高耐溫性(用于PC基材要求120℃以上,BMC基材高達(dá)180℃以上)。在設(shè)計(jì)PC車燈反射罩用UV底漆時(shí),要注意提高涂層的交聯(lián)密度來保證涂層有良好的封...