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TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。Q9:請問PVD鍍膜膜層的厚度是多少？A9:PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。Q10:請問PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色有哪些？A10:我們目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結(jié)束后可以用...

鍍膜靶材是用物理或化學(xué)的方法在靶材表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變靶材表面的反射和透射特性.而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學(xué)鍍膜,有不少用戶不知道這二者的區(qū)別。一、概念的區(qū)別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法.例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等.2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程.在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求.常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜.二、原理的區(qū)別1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域...

成膜好，適合鍍化合物膜。但匹配較困難?？蓱?yīng)用于鍍光學(xué)，半導(dǎo)體器件，裝飾品，汽車零件等。6）增強(qiáng)ARE型。利用電子束進(jìn)行加熱；充入Ar，其它惰性氣體，反應(yīng)氣體氧氣，氮?dú)獾?；離化方式：探極除吸引電子束的一次電子，二次電子外，增強(qiáng)極發(fā)出的低能電子也可促進(jìn)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對基板加；可用于鍍機(jī)械制品，電子器件，裝飾品。7）低壓等離子體離子鍍（LPPD）。利用電子束進(jìn)行加熱；依靠等離子體使充入的惰性氣體，反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對基板加熱，結(jié)構(gòu)簡單，能獲得氧化鋁，氮化鈦，碳化鈦等離子化合物鍍層；可用于鍍機(jī)械制品，電子器件，裝飾品。8）電場蒸發(fā)。利用電子束進(jìn)行...

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。中文名真空鍍膜機(jī)主要思路蒸發(fā)適用范圍衛(wèi)浴五金主要分類溶膠凝膠法目錄1簡介2使用步驟?電控柜操作?DEF-6B操作?關(guān)機(jī)順序3適用范圍4化學(xué)成分?薄膜均勻性概念?主要分類5操作程序真空鍍膜機(jī)簡介編輯需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材?；c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單...

ALtimax中文名：白金鋁鈦_納米晶體；顏色：銀白色；硬度：4300HV；摩擦系數(shù)：。抗氧化溫度：1200℃；優(yōu)點(diǎn)：高熱穩(wěn)定性；通用於高速鋼與硬質(zhì)合金刀具高速、干式、連續(xù)性切削；可加工高硬度模具鋼50HRC。MedicaWC/C涂層顏色：黑色；硬度硬度>17000HV；摩擦系數(shù)：；高工作溫度：450℃；優(yōu)點(diǎn)：磨擦力低，干式金屬潤滑膜；適合醫(yī)療、藥品行業(yè)無油環(huán)境。CrN-WC/C涂層顏色：黑色；硬度>2000HV；摩擦系數(shù)：；高工作溫度：650℃；優(yōu)點(diǎn)：解決射出成型脫膜、腐蝕問題；適合汽車、機(jī)械零件降低磨擦損耗；適合無油軸承，干式金屬潤滑膜。鍍膜技術(shù)真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技...

一、概念的區(qū)別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。二、原理的區(qū)別1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說...

塑料具有來源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢,因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料,大量應(yīng)用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域.但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷,如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜,即可賦予塑料程亮的金屬外觀,合適的金屬源還可**增加材料表面耐磨性能,**拓寬了塑料的裝飾性和應(yīng)用范圍.真空鍍膜的功能是多方面的,這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富.總體來說,真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果.二、有哪幾款節(jié)能鍍膜玻璃陽光控制玻璃在線陽光控...

并且大墻板和小墻板之間設(shè)置有定距管，同時(shí)大墻板和小墻板上固定有放料座，所述放料座上設(shè)置有放卷，且放卷上設(shè)置有薄膜，并且薄膜通過放卷通過鋁導(dǎo)輥與彎輥相連接，所述彎輥上的薄膜通過第二鋁導(dǎo)輥與第二彎輥相連接，且第二鋁導(dǎo)輥和第二彎輥之間的下方設(shè)置有蒸發(fā)源，所述第二彎輥上的薄膜與水冷輥相連接，且水冷輥上的薄膜通過第三鋁導(dǎo)輥與張力輥相連接，并且薄膜通過張力輥與第四鋁導(dǎo)輥相連接，所述第四鋁導(dǎo)輥上的薄膜與擺架上的第五鋁導(dǎo)輥相連接，且第五鋁導(dǎo)輥上的薄膜與第三彎輥相連接，所述第三彎輥上的薄膜通過第六鋁導(dǎo)輥與第七鋁導(dǎo)輥相連接，且第七鋁導(dǎo)輥上的薄膜與收卷相連接，并且收卷安裝在收料座上，同時(shí)收料座安裝在大墻板和小墻板之...

原標(biāo)題：真空鍍膜機(jī)常見的幾種真空鍍膜材料相信大家對真空鍍膜機(jī)常用的真空鍍膜材料并不陌生，但剛?cè)胄械男氯苏J(rèn)起來應(yīng)該就比較吃力了，為了幫助剛?cè)胄械呐笥汛蚝没A(chǔ)，匯馳小編特意歸納一下真空鍍膜機(jī)常見的幾種真空鍍膜材料。真空鍍膜機(jī)1、氧化物一氧化硅SiO、二氧化硅SiO2、二氧化鈦TiO2、二氧化鋯ZrO2、二氧化鉿HfO2、一氧化鈦TiO、五氧化三鈦Ti3O5、五氧化二鈮Nb2O5、五氧化二鉭Ta2O5、氧化釔Y2O3、氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。2、氟化物氟化釹NbF3、氟化鋇BaF2、氟化鈰CeF3、氟化鎂MgF2、氟化鑭LaF3、氟化釔YF3、氟化鐿YbF3、氟化鉺ErF3等高純氟化物。3...

圖1[蒸發(fā)鍍膜設(shè)備示意圖]）電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高（不低于2000[618-1]）的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。為沉積高純單晶膜層，可采用分子束外延方法。生長摻雜的GaAlAs單晶層的分子束外延裝置如圖2[分子束外延裝置示意圖]。噴射爐中裝有分子束源，在超高真空下當(dāng)它被加熱到一定溫度時(shí)，爐中元素以束狀分子流射向基片?；患訜岬揭欢囟?，沉積在基片上的分子可以徙動(dòng)，...

可能會(huì)出現(xiàn)表面應(yīng)力裂紋的缺陷，有了底漆過渡，涂層的厚度約10-20um，是完全可以掩蓋塑膠粗糙的表面。而涂層自身的光滑度一般在，幾乎視為鏡面的效果。涂層填充性影響因素：油漆配方：固體量，生產(chǎn)工藝：膜厚3.獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的電鍍層,使產(chǎn)品得到更高的反射效果和力學(xué)性能.4.附著性.對于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得電鍍層附著性.5.耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護(hù)塑膠免遭熱變形.6.流平性7.耐熱性真空電鍍金屬層一般只有數(shù)十至數(shù)百納米，耐磨抗劃傷性能較差，同時(shí)真空電鍍金屬層暴露在空氣中很容易氧化，從而失...

2、鍍膜（晶）可以增起漆面硬度、防劃痕、(提高漆面硬度并不能讓漆面刀***不入、而是在正常的使用中，諸如洗車、行進(jìn)的時(shí)候，有效的防止堅(jiān)硬的沙粒對漆面的劃傷，有效減少漆面螺旋紋又稱太陽紋等使車漆持久如新)3、易清潔，鍍膜后的車漆不易沾灰，只需日常洗車即可從頻繁的打蠟封釉美容項(xiàng)目中解脫四、汽車鍍膜（晶）必須注意的事項(xiàng)：1、鍍膜（晶）后沒干內(nèi)切記不要用水沖洗汽車，因?yàn)樵谶@段時(shí)間內(nèi)，鍍膜（晶）層還未完全凝結(jié)將繼續(xù)滲透，沖洗將會(huì)沖掉未凝結(jié)的鍍晶。2、做完鍍膜（晶）美容后可盡量避免洗車，因此一般灰塵用干凈柔軟的布條擦去即可。3、做了鍍膜（晶）美容后不要再打蠟，因?yàn)橄瀸涌赡軙?huì)粘附在釉層表面，再追加上鍍晶時(shí)會(huì)...

目前市場上的真空鍍膜設(shè)備廠家是非常多的，所以競爭就非常激烈了，消費(fèi)者在選擇真空鍍膜設(shè)備廠家的時(shí)候，是需要通過一些方面來鑒別真空鍍膜設(shè)備廠家的實(shí)力。一、經(jīng)驗(yàn)。真空鍍膜設(shè)備維修和很多其他的技能是一樣的，具有豐富的經(jīng)驗(yàn)才能應(yīng)對多種狀況的出現(xiàn)，才能保障好結(jié)果。二、成功案例。真空鍍膜設(shè)備維修案例是直接的實(shí)力見證之一，真空鍍膜設(shè)備維修要的還是實(shí)際的操作，這不僅*包括了真空鍍膜設(shè)備本身，還包括了像真空鍍膜設(shè)備這樣的專業(yè)配置，畢竟配置是真空鍍膜設(shè)備維修的重要前提。三、售后服務(wù)。售后服務(wù)是真空鍍膜設(shè)備維修后的一個(gè)重要保障之一，完善的售后服務(wù)是真空鍍膜設(shè)備維修的一部分。四、維修配件必須要有保障。每一個(gè)公司很難在每...

簡介真空鍍膜在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法**早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)如圖1。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃...

基材中如有揮發(fā)性雜質(zhì)釋放會(huì)使鍍鋁層發(fā)彩、變色、影響反射效果。圖1(略)為PC塑料的DSC曲線，此圖顯示出PC基材在溫度為90℃左右時(shí)有明顯的熱流變化，可以認(rèn)為有物質(zhì)釋放，其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg約為140℃，該材料的使用溫度應(yīng)該低于這一溫度。第二，提高基材表面平整度，確保獲得鏡面的鍍膜效果。一般來說塑料表面本身具有，真空鍍膜的厚度不超過μm，無法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面效果，UV涂層厚度達(dá)到10-20μm，表面平整度在μm以下，可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。適用于PC材料車燈反射罩的UV涂料必須具備以下基本特點(diǎn):(1)流平狀態(tài)好，漆膜豐滿光亮，這樣可以確保真空鍍膜后有一個(gè)完整...

離子源（英文名稱：Ionsource）是使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質(zhì)譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機(jī)、離子束刻蝕裝置、離子推進(jìn)器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設(shè)備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質(zhì)濺射以及表面電離過程都能產(chǎn)生離子，并被引出成束。根據(jù)不同的使用條件和用途，已研制出多種類型的離子源。使用較廣的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎(chǔ)的,常被籠統(tǒng)地稱為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產(chǎn)生離子的，也有很廣的用途。新型重離子源的出現(xiàn)，使...

什么是光學(xué)鍍膜：光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。光學(xué)鍍膜原理：1-1真空鍍膜真空鍍膜：真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進(jìn)行的涂料，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等多種涂料，所以。蒸發(fā)和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材，將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。蒸發(fā)涂層通常是加熱目標(biāo)，以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發(fā)，并通過成膜方法（散射島結(jié)構(gòu)-梯形結(jié)構(gòu)-層狀生長）...

薄膜是一種物質(zhì)形態(tài)，它所使用的膜材料非常***，可以是單質(zhì)元素或化合物，也可以是無機(jī)材料或有機(jī)材料。薄膜與塊狀物質(zhì)一樣，可以是單晶態(tài)的，多晶態(tài)的或非晶態(tài)的。近年來功能材料薄膜和復(fù)合薄膜也有很大發(fā)展。鍍膜技術(shù)及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應(yīng)用非常***，尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領(lǐng)域中占有及其重要的地位。鍍膜方法可以分為氣相生成法，氧化法，離子注入法，擴(kuò)散法，電鍍法，涂布法，液相生長法等。氣相生成法又可分為物***相沉積法，化學(xué)氣相沉積法和放電聚合法等。真空蒸發(fā)，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物***相沉積法，是基本的薄膜制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術(shù)是薄膜制作技術(shù)的基礎(chǔ)...

蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。濺射鍍膜：用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材——靶,固定在陰極上?；糜谡龑Π忻娴年枠O上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10～1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。專業(yè)卷繞鍍膜機(jī)供應(yīng)商，無錫光潤！湖南本地卷繞鍍膜機(jī)在大面積基板上可制取均勻薄膜，放電電流隨...

是在真空蒸發(fā)和真空濺射基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新的鍍膜技術(shù)。離子鍍的英文全稱IonPlating，簡稱IP。它是在真空條件下，應(yīng)用氣體放電實(shí)現(xiàn)鍍膜的，即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，同時(shí)將蒸發(fā)物或其反應(yīng)產(chǎn)物蒸鍍在基片上。1972年，Banshah提出了在真空放電蒸鍍時(shí)，導(dǎo)入反應(yīng)氣體生成化合物的方法，即（活性反應(yīng)蒸鍍法）（簡稱ARE法）。與此同時(shí)，在離子鍍時(shí)代替氬氣導(dǎo)入一部分反應(yīng)氣體生成化合物薄膜，形成了反應(yīng)性離子鍍法（簡稱RIP法）等等。根據(jù)不同膜材的氣化方式和離化方式，可構(gòu)成不同類型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有：電阻加熱，電子束加熱，等離子電子束加熱，高...

濾光片原理：濾光片是塑料或玻璃片再加入特種染料做成的，紅色濾光片只能讓紅光通過，如此類推，玻璃片的透射率原本與空氣差不多，所有色光都可以通過，所以是透明的，但是染了染料后，分子結(jié)構(gòu)變化，折射率也發(fā)生變化，對某些色光的通過就有變化了，比如一束白光通過藍(lán)色濾光片，射出的是一束藍(lán)光，而綠光、紅光極少，大多數(shù)被濾光片吸收了。濾光片特點(diǎn)：其主要特點(diǎn)是尺寸可做得相當(dāng)大，薄膜濾光片，一般透過的波長較長，多用做紅外濾光片，后者是在一定片基，用真空鍍膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金屬-介質(zhì)-金屬膜，或全介質(zhì)膜，構(gòu)成一種低級次的﹑多級串聯(lián)實(shí)心法布里-珀**涉儀，膜層的材料﹑厚度和串聯(lián)方式的...

利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。一、結(jié)構(gòu)**簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時(shí)，在它的兩個(gè)表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定（見光在分界面上的折射和反射）。二、特點(diǎn)光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割，膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的，可以是透明介質(zhì)，也可以是光學(xué)薄膜吸收介質(zhì)：可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的，實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多，...

電鍍油污處理劑在UV真空鍍膜工藝中適用于電鍍前處理除油，同時(shí)對油漆具有增強(qiáng)附著力的用途。在工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域，手機(jī)殼、化妝品瓶蓋、塑膠玩具、手機(jī)中框等在成型時(shí)，主要工藝為注塑成型，難以避免脫模劑以及其他油污粘附在基材上，導(dǎo)致噴UV漆之后起油窩，所以除油需要好用且適合電鍍噴涂線體的除油方法。ABS、PC、ABS+PC、TPU等塑膠基材，傳統(tǒng)的白電油等除油方法，工藝繁雜、安全性低、線體生產(chǎn)效率不高，二次清洗、浸泡等還是會(huì)帶來油污在工件上的粘附，難以高效穩(wěn)定的除油。電鍍油污處理劑通過底涂的方式，適用于電鍍噴涂線體，遮蓋油污，具有良好的蓋油污能力以及流平，我們通過以下實(shí)例來看看電鍍油污處理劑的應(yīng)用效...

薄膜是一種物質(zhì)形態(tài)，它所使用的膜材料非常***，可以是單質(zhì)元素或化合物，也可以是無機(jī)材料或有機(jī)材料。薄膜與塊狀物質(zhì)一樣，可以是單晶態(tài)的，多晶態(tài)的或非晶態(tài)的。近年來功能材料薄膜和復(fù)合薄膜也有很大發(fā)展。鍍膜技術(shù)及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應(yīng)用非常***，尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領(lǐng)域中占有及其重要的地位。鍍膜方法可以分為氣相生成法，氧化法，離子注入法，擴(kuò)散法，電鍍法，涂布法，液相生長法等。氣相生成法又可分為物***相沉積法，化學(xué)氣相沉積法和放電聚合法等。真空蒸發(fā)，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物***相沉積法，是基本的薄膜制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術(shù)是薄膜制作技...

（1）成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學(xué)鍍膜溫度更高達(dá)1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì)，而真空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。（2）蒸發(fā)源選擇自由度大?？蛇x擇的鍍膜材料多而不受材料熔點(diǎn)限制，可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。（3）不使用有害氣體、液體，對環(huán)境無不利影響。在當(dāng)前越來越重視環(huán)保的大趨勢下，這點(diǎn)極其可貴。（4）帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點(diǎn)、鋅浪、鋅花等問題。（5）工藝靈活，改變品種方便?？慑儐蚊?、雙面...

通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上?；糜谡龑Π忻娴年枠O上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10～1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發(fā)鍍膜不同，濺射鍍膜不受膜材熔點(diǎn)的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺射化合物膜可用反應(yīng)濺射法，即將反應(yīng)氣體(O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉積在...

可能會(huì)出現(xiàn)表面應(yīng)力裂紋的缺陷，有了底漆過渡，涂層的厚度約10-20um，是完全可以掩蓋塑膠粗糙的表面。而涂層自身的光滑度一般在，幾乎視為鏡面的效果。涂層填充性影響因素：油漆配方：固體量，生產(chǎn)工藝：膜厚3.獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的電鍍層,使產(chǎn)品得到更高的反射效果和力學(xué)性能.4.附著性.對于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得電鍍層附著性.5.耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護(hù)塑膠免遭熱變形.6.流平性7.耐熱性真空電鍍金屬層一般只有數(shù)十至數(shù)百納米，耐磨抗劃傷性能較差，同時(shí)真空電鍍金屬層暴露在空氣中很容易氧化...

耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為***，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。Q5:請問PVD鍍膜能否代替化學(xué)電鍍？A5:在現(xiàn)階段，PVD鍍膜是不能取代化學(xué)電鍍的，并且除了在不銹鋼材料表面可直接進(jìn)行PVD鍍膜外，在很多其他材料（如鋅合金、銅、鐵等）的工件上進(jìn)行PVD鍍膜前，都需要先對它們進(jìn)行化學(xué)電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應(yīng)用在一些比較***的五金制品上，對那些價(jià)格較低的五金制品通常也只是進(jìn)行化學(xué)電鍍而不做PVD鍍膜。Q6:請問采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層有什么特點(diǎn)？A6:采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具...

這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，即能鍍金屬膜又能直接鍍化合物膜，如氧化鋅等；可用于鍍電子器件，音響器件。11）多弧離子鍍。利用陰極弧光進(jìn)行加熱；依靠蒸發(fā)原子束的定向運(yùn)動(dòng)使反應(yīng)氣體(或真空)離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升較大，離化率高，沉積速率大；可用于鍍機(jī)械制品，刀鋸，模具。4.真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展趨勢科技發(fā)展愈來愈快，信息高速公路，數(shù)字地球等新概念的提出，影響和帶動(dòng)了全球高科技的發(fā)展，目前，生命科學(xué)，環(huán)?？萍?，材料科學(xué)和納米科技是高科技重點(diǎn)研究的領(lǐng)域；納米科技中又以納米電子學(xué)為優(yōu)先研究領(lǐng)域。目前計(jì)算機(jī)和信息技術(shù)的基礎(chǔ)是超大規(guī)模集成電路；但下個(gè)世紀(jì)的基本元件將是納米電子集成電路。它是微電...

許多人在使用真空鍍膜設(shè)備的時(shí)候，不重視真空鍍膜設(shè)備的清洗，導(dǎo)致了真空鍍膜設(shè)備出現(xiàn)很多問題，下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析清潔方案。1.油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)是使用的真空系統(tǒng)，其獲得真空度范圍為1.3*10-3~1.3*10-5Pa。油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)構(gòu)成的各類真空鍍膜設(shè)備，常見的故障是真空度抽不上去或真空度抽不到原來的極限壓力水平。真空度抽不上去的原因需要仔細(xì)分析，可能是活動(dòng)密封處松動(dòng)、焊縫漏氣、真空泵或真空閥門等元件損壞等原因所導(dǎo)致。此外，真空室內(nèi)壁的油蒸汽污染，真空工藝過程各種污染物的污染也可能是主要原因。防止的方法是：定期清洗真空室。定期對油封機(jī)械真空泵和油金屬擴(kuò)散泵進(jìn)行清理。2.真空鍍膜器材由許多不...