【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】 磁控濺射對陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點加以改良,形成了電場和磁場方向相互垂直的特點。在正交的電磁場的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進,從而xianzhu地延長了電子的運動路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經(jīng)過一次碰撞損失一部分動能,經(jīng)過多次碰撞后,喪失了能量成為“*終電子”進入離陰極靶面較遠的弱電場區(qū),*后到達陽極時已經(jīng)是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會使基片過熱。同時高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產(chǎn)生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降低。在濺射儀起輝以后,并不把樣品轉(zhuǎn)入陽極的生長位置,也不通循環(huán)水,使樣品隨放電的熱能而逐漸升高至一定溫度后,才開始生長,以減小應(yīng)力,獲得牢固度較高的薄膜。另外在樣品盤中還安裝了溫控儀(精度小于1℃)以監(jiān)控薄膜生長過程中的樣品溫度。 真空鍍膜機技術(shù)教程。江西真空鍍膜機及真空鍍膜應(yīng)用
【真空鍍膜機檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內(nèi)腔充以氣體(一般為空氣),充氣壓力的高低視零部件的強度而定,一般為(2~4)×105帕。充壓后的零部件如發(fā)出明顯的嘶嘶聲,音響源處就是漏孔位置。用這種方法可檢*小漏率為5帕·升/秒的漏孔。如不能用聲音直接察覺漏孔,則用皂液涂于零部件可疑表面處,有氣泡出現(xiàn)處便是漏孔位置。用這種方法*小可檢漏率為5×10-3帕·升/秒的漏孔。此外,還可將充氣的零部件浸在清凈的水槽中,氣泡形成處便是漏孔位置。用水槽顯示漏孔,方便可靠,并能同時全部顯示出漏孔位置。如氣泡小、成泡速度均勻、氣泡持續(xù)時間長,則為1.3×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔。如氣泡da、成泡持續(xù)時間短,則為13~103帕·升/秒漏率的漏孔。貴州熱蒸發(fā)真空鍍膜機真空鍍膜機怎么保養(yǎng)?
【真空鍍膜機之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng):排氣系統(tǒng)為鍍膜機真空系統(tǒng)的重要部分,主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為:機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài),為擴散泵后繼抽真空提供前提,之后當擴散泵抽真空腔的時候,機械泵又配合油擴散泵組成串聯(lián),以這樣的方式完成抽氣動作。
【真空鍍膜對環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?;M入鍍膜室前均應(yīng)進行認真的鍍前清潔處理,達到工件去油、去污和脫水的目的。 基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學清冼方法將其去掉。 對經(jīng)過清洗處理的清潔表面,不能在da氣環(huán)境中存放,要用封閉容器或保潔柜貯存,以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底,可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至*小。因為這些容器優(yōu)先吸附碳氫化合物。對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面,一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。 qing除鍍膜室內(nèi)的灰塵,設(shè)置清潔度高的工作間,保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對環(huán)境的基本要求??諝鉂穸萪a的地區(qū),除鍍前要對基片、真空室內(nèi)各部件認真清洗外,還要進行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi),注意油擴散泵返油,對加熱功率高的擴散泵必須采取擋油措施。 真空鍍膜機機組是怎樣的?
【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源,在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量,從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣),可以利用兩個適當?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來達到清洗的目的。該方法中,惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片,它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣,對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳氫化合物。一般情況下,其中的碳不能單獨揮發(fā).經(jīng)化學清洗后,需要引入Ar或Ar+O2混合氣體進行輝光放電清洗,使表面上的雜質(zhì)和由于化學作用被束縛在表面上的氣體得到qing除。國產(chǎn)真空鍍膜機廠商推薦。陜西真空鍍膜機常見問題與解決辦法
離子真空鍍膜機是什么?江西真空鍍膜機及真空鍍膜應(yīng)用
【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化:主要是鋁的陽極氧化,是利用電化學原理,在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3(氧化鋁)膜。這層氧化膜具有防護性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性 適用材料: 鋁、鋁合金等鋁制品 工藝成本:生產(chǎn)過程中,水、電的消耗是相當da的,特別是在氧化工序。機器本身的熱耗,需要不停地用循環(huán)水進行降溫,噸電耗往往在1000度左右。 環(huán)境影響:陽極氧化在能效方面不算出色,同時在鋁電解生產(chǎn)中,陽極效應(yīng)還會產(chǎn)生對da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。 江西真空鍍膜機及真空鍍膜應(yīng)用
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