【真空鍍膜機常見故障之旋片泵故障及處理方法】 1、未做保養(yǎng)導致灰塵太多。真空鍍膜設備在鍍膜過程中容易產生da量灰塵，這些灰塵伴隨空氣容易混雜到泵油中，時間久了容易對轉子及泵腔造成磨損及破壞。 處理方法：如果灰塵不多，可以油過濾系統(tǒng)除掉灰塵；如果灰塵過多可以用除塵器配合油過濾系統(tǒng)除掉灰塵。 2、旋片式真空泵冒煙和噴油：指旋片式真空泵在運轉中排氣口冒煙或者噴油，冒煙。處理方法：冒煙闡明泵的進氣口外，包括管道、閥門、容器有修理的狀況。 3、噴油，闡明進氣口外有da量的漏點，以至是進氣口暴露da氣。處理方法：封住泵的進氣口使泵運轉，假如不噴油的話，闡明有漏點；排氣閥片損壞，檢查排氣閥片能否損壞，改換壞的排氣閥片。 4、被抽氣體的溫度可能過高。處理方法：降低被抽氣體的溫度，或能夠加一個相應的換熱器。 5、配合的間隙改da。這是長期被抽氣體內含有粉塵等，形成旋片和定子之間磨損后的間隙增da。處理方法：檢查間隙能否過da，改換新的零部件。 6、泵內的油路不通或者不暢，泵腔內沒有堅持一定量的油量。處理方法：檢查油路能否暢通，并加同類型的真空泵油。 離子真空鍍膜機是什么？江蘇真空鍍膜機哪家好

【真空鍍膜機清洗工藝要求】真空工藝進行前應清洗真空材料，從工件或系統(tǒng)材料表面qing除污染物；真空零部件的表面清洗處理也是非常有必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同時也會影響真空部件連接處的強度和密封性能。 污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”，根據污染物的物理狀態(tài)可分為固體、氣體及液體，它們以膜或散粒形式存在。就其化學特征來看，它可以處于離子態(tài)或共價態(tài)，可以是無機物或有機物。 暴露在空氣中的表面*易受到污染，污染的來源有很多種，*初的污染通常是表面本身形成過程中的一部分。吸附現象、化學反應、浸析和干燥過程、機械處理以及擴散和離析過程都使各種成分的表面污染物增加。 河北配分子泵的真空鍍膜機真空鍍膜機技術教程。

【真空鍍膜機沖洗工藝之反應氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件，為了獲得原子態(tài)的清潔表面，消除其表面污染的標準方法是化學清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運行后)，由于真空系統(tǒng)內的各種零部件已經被固定，這時對它們進行除氣處理就很困難，一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數的分子如碳氫化合物的污染)，通常要拆卸后重新處理再安裝．而用反應氣體工藝，可以進行原位在線除氣處理．有效地除去不銹鋼真空室內的碳氫化合物的污染.其清洗機理：在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0 )和還原性氣體(H2、N H3)對金屬表面進行化學反應清洗，消除污染，以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化／還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質，表面反應速率的da小通過調整反應氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言，精確的參數要通過實驗來確定.對于不同的結晶取向，這些參數是不同的。

【真空鍍膜設備設計原則及常用技術指標】 真空設備設計原則：(1)先功能，后結構。先給出指標參數、生產要求、功能；(2)先核xin后輔助。由內向外。先決定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整體。再由整體，定局部。(4)先設計，后校核。由粗到細。 鍍膜機常用技術指標：鍍膜方法：CVD，PVD（蒸發(fā)、濺射、離子鍍、復合鍍）；被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產方式:連續(xù)、半連續(xù)、周期式。生產周期。生產量。生產速率。技術參數;設備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時間、恢復真空時間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機)膜厚不均勻程度;功率;*高電壓。 真空鍍膜機的工作原理和構成。

【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內由惰性氣體(通常為氬)產生具有較高能量的離子轟擊靶材料，把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優(yōu)點是基片相對于離子源和靶是du立的，它的溫度可以單獨控制。基片通常接地位，它和靶與高頻電路無關，不會象陰極濺射鍍膜那樣受到高能電子的轟擊，因而溫度較低。所以只要配置一臺較好的恒溫循環(huán)器(如HX1050型，控溫范圍為-10℃~50℃，精度≤0。5℃)，實現對樣品臺的單獨控溫，就可以根據不同樣品的要求以及薄膜生長不同階段的溫度需要進行適當調節(jié)。根據現有離子束濺射設備的構造，設計、加工了專門的金屬樣品架，放上樣品后蓋上金屬壓片，用螺絲緊密地固定在鍍膜腔體的樣品臺上，可使樣品和控溫的樣品臺有良好的熱接觸。并在樣品架中放置了一個測溫鉑電阻，用螺絲把金屬壓片連同其下的鉑電阻一起固定壓緊，再用導線引出與高精度的萬用表相連，以監(jiān)測薄膜生長過程中的樣品溫度。錦成國泰真空鍍膜機怎么樣？河北真空鍍膜機的價格

真空鍍膜機的工作原理。江蘇真空鍍膜機哪家好

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數稱為濺射產額(Yield)產額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等*高，Ti,Mo,Ta,W等*低。一般在0.1-10原子/離子。 離子可以直流輝光放電(glow discharge)產生，在10-1—10 Pa真空度，在兩極間加高壓產生放電，正離子會轟擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。 正常輝光放電(glow discharge)的電流密度與陰極物質與形狀、氣體種類壓力等有關。濺鍍時應盡可能維持其穩(wěn)定。 任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點材料也容易濺鍍，但對非導體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因導電性較差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。 江蘇真空鍍膜機哪家好

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